物理气相沉积（PVD）涂层工艺主要是通过电弧蒸发作用或磁控溅射作用来实现涂层在刀具表面的沉积。荷兰的PVD和等离子体辅助CVD涂层技术开发商——豪泽技术涂层公司（Hauzer Techno Coating BV）正在尝试用其第二代高能激发磁控溅射（HIPIMS+）涂层技术对PVD涂层工艺进行创新变革。
据豪泽公司介绍，HIPIMS+涂层技术可以克服电弧蒸发技术容易形成液滴的缺点。该公司指出，尽管通过对靶材进行适当冷却和电弧运动控制，可将液滴的尺寸和数量减小到可以容忍的范围之内，但与相应的电弧蒸发涂层相比，HIPIMS+涂层表面更光滑、硬度更高、与基体的粘附性更好。
豪泽公司补充说，与电弧沉积工艺相比，磁控溅射工艺可能会导致涂层与基体粘附性下降和涂层密度减小，而它开发的HIPIMS+涂层新技术能够克服这些缺点。
由谢菲尔德哈勒姆大学与包括豪泽公司在内的几家合作伙伴联合开发的第一代HIPIMS涂层技术是一种新型磁控溅射技术，其阴极上的峰值功率要比传统的磁控溅射工艺高几百倍。豪泽公司指出，为了使等离子体达到所要求的高电离化，提高阴极峰值功率是十分必要的。该技术实现工业化应用的主要局限性在于，与传统的磁控溅射工艺相比，其沉积速度较慢。
为此，豪泽公司开发了第二代HIPIMS+技术。与采用频率达200微秒、阴极峰值功率为兆瓦级的脉冲的第一代HIPIMS技术相比，第二代HIPIMS+技术采用的脉冲频率达3.0毫秒、阴极峰值功率为几百千瓦。因此，该技术能够获得致密而无缺陷的涂层。
豪泽公司指出，HIPIMS+技术的主要优点是被涂层工件承受的热负荷较低。因此（尤其对于热敏感的工件），可以通过提高额定功率，达到较高的沉积速度，从而使该技术在经济上具有工业化应用的可行性。
豪泽公司可提供HIPIMS+涂层技术及相应的Flexicoat涂层设备。该技术及其设备目前仍在开发之中，预计在几年内可逐步成熟。下一步将会实现工业化生产。
